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Modulation of Schottky barrier height in graphene/MoS2/metal vertical heterostructure with large current ON-OFF ratio

机译:石墨烯/ mos2 /金属垂直中肖特基势垒高度的调制   具有大电流开关比的异质结构

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摘要

Detail transport properties of graphene/MoS2/metal vertical heterostructurehave been investigated. The van der Waals interface between the graphene andMoS2 exhibits Schottky barrier. The application of gate voltage to the graphenelayer enables us to modulate the Schottky barrier height; thus gives rise tothe control of the current flow across the interface. By analyzing thetemperature dependence of the conductance, the modulation of Schottky barrierheight {\Delta}{\phi} has been directly determined. We observed significantMoS2 layer number dependence of {\Delta}{\phi}. Moreover, we demonstrate thatthe device which shows larger {\Delta}{\phi} exhibits larger currentmodulation; this is consistent with the fact that the transport of thesedevices is dominated by graphene/MoS2 Schottky barrier.
机译:研究了石墨烯/ MoS2 /金属垂直异质结构的详细输运性质。石墨烯与MoS2之间的范德华界面呈现肖特基势垒。将栅极电压施加到石墨烯层使我们能够调节肖特基势垒高度;因此引起了对通过接口的电流的控制。通过分析电导的温度依赖性,可以直接确定肖特基势垒高度{\ Delta} {\ phi}的调制。我们观察到{\ Delta} {\ phi}的显着MoS2层数依赖性。此外,我们证明了显示较大{\ Delta} {\ phi}的设备表现出较大的电流调制。这与这些器件的传输以石墨烯/ MoS2肖特基势垒为主导的事实是一致的。

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